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        晶圓缺陷檢查機
        
			
        本設備使用線掃相機搭配檢測平臺的移動，實現Wafer兩面的外觀及端面檢查，是一臺非常適合在晶圓原材、再生后監控Wafer品質的多功能檢測設備。

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